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高真空光学多层镀膜机采用e型电子枪蒸发源，可镀各种高熔点金属和氧化物材料，可制备多种光学镜片，眼镜片镀增透膜,滤光片，IR-CUT等，配有光学膜厚控制系统，电控系统采用PLC控制，可实现手动、半自动和自动3种方式，是光学仪器、激光工业、眼镜行业及照相行业等必需设备。
性能 型号 | SXL-GLD-900 | SXL-GLD-1100 | SXL-GLD-1300 |
镀膜室尺寸 | ￠900×H1100MM | ￠1100×H1250MM | ￠1300×H1490MM |
工装夹具 | 拱型单工件盘，更大限度满足客户对均匀性的需要，旋转5~30r/min,无级变速 | 1、拱型单工件盘、满足客户对均匀性的需要，旋转5~30r/min,无级变速。 2、拱型三工件盘 | |
真空系统 | 扩散泵KT-600,罗茨泵RTO-300,机械泵2X-70,维持泵2X-8,管路为304不锈钢 | 扩散泵KT-800,罗茨泵RTO-600,机械泵2X-70,维持泵2X-8,管路为304不锈钢 | 扩散泵KT-6300,罗茨泵RTO-300,机械泵2X-70,维持泵2X-15,管路为304不锈钢 |
极性真空:优于6X10-4Ma | |||
配置防湍流装置，安全互锁设计，手动、自动可选 | |||
加热系统 | 发热管上加热方法，PID控制，最高350℃±1.5℃ | ||
工作气体充气 | 压强仪或是手动微调充气阀 | ||
真空离子轰击 | 直流3KV,0.6KW棒状阴极（用于镀膜前自行对工件进行清洗）和气体离子源选配 | ||
蒸发源（选配） | 1、电子枪：10KW、高压稳定。定位扫描、束斑聚焦性好、定位精度高、扫描再现性好。 2、坩埚：六穴￠35*20坩埚或八穴￠35*20 | ||
离子源（选配） | 霍两离子源：用于电镀前清洗或电镀过程进行辅助镀，有利于提高膜层折射率、牢固率、提高膜层致辞密门头性、附着力。（功率按产品选择） | ||
镀膜控制系统（选配） | 1、晶控器：可储存 1-99层自动镀膜过程，99种程序数据，精度±1A°固定误差。 | ||
2、光控器：采用多波长的全光谱终点分析技术，通过对监控片370-870mm的透射率（或反射率）曲线分析来判定膜层，控制精度高；也可采用单波长控制，自动控制的手动控制。附加Caie3.5膜系计算软件，一体化程度高。 | |||
3、光控器配合晶控器能满足高精度、高重复性的镀膜要求，与上位机配合可以实现自动控制 | |||
4、国产光控器：波长330-870NM可调，精度可达到±1.5NM | |||
